| 标题 |
Impact of Non‐Stoichiometric Phases and Grain Boundaries on the Nanoscale Forming and Switching of HfOx Thin Films 相关领域
材料科学
晶界
微晶
单斜晶系
氧气
导电原子力显微镜
化学计量学
纳米尺度
电导率
导电体
薄膜
电导
相(物质)
电阻率和电导率
纳米技术
电阻随机存取存储器
粒度
分析化学(期刊)
结晶学
电压
原子力显微镜
微观结构
复合材料
凝聚态物理
晶体结构
冶金
电气工程
物理化学
化学
色谱法
工程类
有机化学
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Advanced Electronic Materials 作者:Niclas Schmidt; Nico Kaiser; Tobias Vogel; Eszter Piros; Silvia Karthäuser; et al 出版日期:2024-01-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|