Engineering the dielectric properties of t -HfO 2 thin films using first-principles calculations

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标题	Engineering the dielectric properties of t -HfO 2 thin films using first-principles calculations 相关领域材料科学电介质薄膜复合材料光电子学凝聚态物理德拉姆介电损耗工程物理介电常数
网址	http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2025/TC/D5TC02418H
DOI	10.1039/d5tc02418h doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Zhe Su; Shuai Chen; Ruiling Gao; Yongchang Li; Guodong Zhao; et al 出版日期：2025-09-23
求助人	Lijia_YAO 在 2026-05-18 13:28:50 发布自安徽，悬赏 10 积分
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