| 标题 |
 Fabrication of Ultrathin Ferroelectric Al0.7Sc0.3N Films under Complementary‐Metal‐Oxide‐Semiconductor Compatible Conditions by using HfN0.4 Electrode 相关领域
材料科学
铁电性
光电子学
制作
电极
氧化物
泄漏（经济）
矫顽力
纳米技术
电介质
冶金
凝聚态物理
经济
物理化学
化学
病理
宏观经济学
替代医学
物理
医学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Advanced Materials 作者：Seung Kyu Ryoo; Kyung Do Kim; Wonho Choi; Panithan Sriboriboon; S.B. Heo; et al 出版日期：2024-11-13 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Copyright
Kao
Nole
GingerF
Criminology34
cdercder
柏柏
OK
VDC
丰富的草莓
小透明
Puan
Feng
yjh123
无极微光
ZhaohuaXie
Hayat
嘻嘻哈哈
MchemG
潇洒的惋清
皖公网安备34019202002308
