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Next-generation Embedded Decoupling Capacitors for Advanced CMOS Technology: from Ferroelectrics to Ultra High-k Dielectrics |
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期刊:2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) 作者:S. -C. Chang; C. Neumann; B. Bangalore Rajeeva; M. Jaikissoon; K. Neilson; et al 出版日期:2025 |
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(2025-6-4)