| 标题 |
Low-temperature plasma engineering of electrochemically adaptive N-doped carbon interface for strain-robust Ni-rich cathodes 相关领域
材料科学
阴极
涂层
氧化物
化学工程
碳化
法拉第效率
氧气
纳米技术
碳纤维
三元运算
电极
等离子体
复合材料
炭黑
纳米颗粒
格子(音乐)
氧化还原
电化学
退火(玻璃)
储能
阳极
导电体
陶瓷
纳米复合材料
吸附
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Material Science and Technology 作者:Tengfei Zhang; Chang Li; Zhong Qiu; Shenghui Shen; Xinhui Xia; et al 出版日期:2026-03-07 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)