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标题
Effect of Polyoxyethylene-Based Nonionic Surfactants on Chemical–Mechanical Polishing Performance of Monocrystalline Silicon Wafers
聚氧乙烯基非离子表面活性剂对单晶硅片化学机械抛光性能的影响
相关领域
单晶硅 抛光 薄脆饼 硅 材料科学 化学机械平面化 光电子学 复合材料
网址
https://www.mdpi.com/2073-4352/14/5/460/pdf?version=17156795...
DOI
10.3390/cryst14050460 doi
其它 期刊：Crystals
作者：Bowen Jiang; Jie Guan; Peng Zhao; Yulin Chen; Zefang Zhang
出版日期：2024-05-14
求助人
柠檬九分酸 在 2025-06-24 16:36:32 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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