Model-Based Optimization of CMP Process Parameters for Uniform Material Removal Selectivity in Cu/Barrier Planarization - 科研通

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标题	Model-Based Optimization of CMP Process Parameters for Uniform Material Removal Selectivity in Cu/Barrier Planarization 基于模型的Cu/势垒平坦化均匀材料去除选择性CMP工艺参数优化相关领域化学机械平面化材料科学磨料薄脆饼泥浆工艺优化平面的抛光平面度测试复合材料纳米技术化学工程计算机科学计算机图形学（图像）工程类结晶学化学
网址	https://doi.org/10.1149/2162-8777/ac4ffb
DOI	10.1149/2162-8777/ac4ffb doi
其它	期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Wazir Akbar; Özgür Ertunç 出版日期：2022-01-28
求助人	牛奶奶爱喝纯牛奶在 2025-12-27 11:16:43 发布自天津，悬赏 10 积分
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