Defectivity in Silicon Nitride Etching with Phosphoric Acid using Single Wafer Processing

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标题	Defectivity in Silicon Nitride Etching with Phosphoric Acid using Single Wafer Processing 相关领域薄脆饼蚀刻（微加工）氮化硅材料科学磷酸硅氮化物光电子学冶金纳米技术图层（电子）
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/11010170/11010230/110106...
DOI	10.1109/asmc64512.2025.11010650 doi
其它	期刊：2025 36th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) 作者：Wei-Shang Lo; Taiki Hinode; M. Sankarapandian; Alma Vela Ramirez; Minnal Packiam 出版日期：2025-05-28
求助人	zj 在 2025-10-25 20:24:18 发布自湖北，悬赏 10 积分
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