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标题
Direct femtosecond laser lithography for photoresist patterning
用于光刻胶图案化的直接飞秒激光光刻
相关领域
无光罩微影 光刻胶 光掩模 材料科学 平版印刷术 飞秒 激光器 光刻 下一代光刻 光学 光电子学 X射线光刻 极紫外光刻 纳米技术 电子束光刻 抵抗 物理 图层(电子)
网址
DOI
10.1117/1.3081094 doi
其它 期刊:Optical Engineering
作者:Ik‐Bu Sohn
出版日期:2009-02-01
求助人
xiaosfsd 在 2025-09-15 18:50:57 发布自广东,悬赏 20 积分
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