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Strain dependence of Si–Ge interdiffusion in epitaxial Si∕Si1−yGey∕Si heterostructures on relaxed Si1−xGex substrates |
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Guangrui Xia; Oluwamuyiwa O. Olubuyide; Judy L. Hoyt; Michael Canonico 出版日期:2006-01-04 |
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