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标题
Multiaxis and multibeam technology for high throughput maskless E-beam lithography
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DOI
10.1116/1.4767275 doi
其它 期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
作者:Hiroshi Yasuda; Takeshi Haraguchi; Hidebumi Yabara; Kouji Takahata; Hidekazu Murata; et al
出版日期:2012-11-01
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