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专利、报告等 Effect of film thickness on solution-processed Al2O3 high-k dielectric properties and TFT performance |
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| DOI |
10.2139/ssrn.6709158
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期刊: 作者:Hui Kang; Siqing Yuan; Yihuan Wang; Jingwei Zhang; Dewen Zhao; et al 出版日期:2026-05-04 |
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(2025-6-4)