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  Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Cu Films Using Liquid Copper Precursor Bis(1-ethylmethylamino-2-propoxy)copper, Cu(emap) 2 相关领域
原子层沉积
材料科学
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铜
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液相
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液态液体
原子吸收光谱法
液态
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期刊：ACS Omega 作者：Akihiro Nishida; Atsushi Yamashita; Masaki Enzu; Atsushi Sakurai; Yasutaka Matsuo 出版日期：2026-05-11 |
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