Investigation of Optimum Deposition Conditions of Radio Frequency Reactive Magnetron Sputtering of Al0.7Sc0.3N Film with Thickness down to 20 nm

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标题	Investigation of Optimum Deposition Conditions of Radio Frequency Reactive Magnetron Sputtering of Al0.7Sc0.3N Film with Thickness down to 20 nm
网址	https://doi.org/10.1002/aelm.202200726
DOI	10.1002/aelm.202200726 doi
其它	期刊：Advanced electronic materials 作者：Seung Kyu Ryoo; Kyung Do Kim; Hyeon Woo Park; Yong Bin Lee; Suk Hyun Lee; et al 出版日期：2022-09-02
求助人	wxy 在 2026-07-03 15:39:16 发布自北京，悬赏 10 积分
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