| 标题 |
 Investigation into a prototype extreme ultraviolet low-n attenuated phase-shift mask 相关领域
临界尺寸
材料科学
光学
紫外线
相（物质）
旁瓣
极端紫外线
光电子学
物理
计算机科学
电信
激光器
量子力学
天线（收音机）
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| DOI |
10.1117/1.jmm.20.2.021006
doi
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| 其它 |
期刊：Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 作者：Claire van Lare; Frank Timmermans; Jo Finders; Olena Romanets; Cheuk-Wah Man; et al 出版日期：2021-05-21 |
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