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Sub-0.2 V-VTH Cryo-CMOS Technology via Halo Implantation and Metal-Gate Engineering |
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Chang He; Yue Xin; Xiao-Yu Liu; Ze-Wei Wang; Zhi-Dong Tang; et al 出版日期:2026-06-01 |
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(2025-6-4)