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标题
Investigation of Ge-Based P-Channel Planar-Doped Barrier FETs integrated on Si
硅基P沟道平面掺杂势垒场效应晶体管的研究
相关领域
材料科学 光电子学 兴奋剂 制作 平面的 场效应晶体管 晶体管 泄漏（经济） 缩放比例 频道（广播） MOSFET 工程物理 电子工程 纳米技术 电气工程 计算机科学 工程类 电压 医学 替代医学 计算机图形学（图像） 几何学 数学 病理 经济 宏观经济学
网址
https://doi.org/10.1016/j.mejo.2022.105404
DOI
10.1016/j.mejo.2022.105404 doi
其它 期刊：Microelectronics Journal
作者：Yasmine Elogail; Fritz Berkmann; Caterina J. Clausen; Inga A. Fischer; Linda A. Hänel; et al
出版日期：2022-02-28
求助人
uscd_del 在 2025-08-29 13:37:40 发布，悬赏 10 积分
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