Improving the endurance for ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films by interface and defect engineering

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标题	Improving the endurance for ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films by interface and defect engineering 通过界面和缺陷工程提高铁电Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的耐久性相关领域退火（玻璃）铁电性哈夫尼亚材料科学薄膜复合材料光电子学纳米技术电介质陶瓷立方氧化锆
网址	https://doi.org/10.1063/5.0194207
DOI	10.1063/5.0194207 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Jing Zhou; Yue Guan; Miao Meng; Peizhen Hong; Shuai Ning; et al 出版日期：2024-02-26
求助人	zzyfdc 在 2025-09-01 10:59:06 发布自北京，悬赏 10 积分
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