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标题
High mobility W-doped In2O3 thin films: Effect of growth temperature and oxygen pressure on structural, electrical and optical properties
高迁移率W掺杂In2O3薄膜：生长温度和氧压对结构、电学和光学性能的影响
相关领域
材料科学 铟 薄膜 兴奋剂 电阻率和电导率 钨 氧气 透射率 氧化物 脉冲激光沉积 分压 分析化学（期刊） 光电子学 纳米技术 化学 冶金 电气工程 工程类 有机化学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2007.07.146
DOI
10.1016/j.apsusc.2007.07.146 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：R.K. Gupta; Kartik Ghosh; Sanjay R. Mishra; P.K. Kahol
出版日期：2007-07-26
求助人
三冬四夏 在 2025-08-22 09:29:52 发布自江苏，悬赏 10 积分
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