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Non-ionic photo-acid generators for next-generation EUV photoresists 用于下一代EUV光致抗蚀剂的非离子光酸发生器
相关领域
极紫外光刻
离子键合
光电子学
抵抗
材料科学
计算机科学
纳米技术
化学
离子
有机化学
图层(电子)
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期刊: 作者:Madan R. Biradar; Kyung Hee Oh; Chaolei Ban; Jae Hyun Kim; Rachel L. Snyder; et al 出版日期:2025-04-22 |
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