| 标题 |
[高分]
 Microwave plasma enhanced CVD of aluminum oxide films: Influence of the deposition parameter on the films characteristics 微波等离子体增强CVD氧化铝薄膜：沉积参数对薄膜特性的影响
相关领域
氧气
氢氟酸
薄膜
分析化学（期刊）
化学气相沉积
体积流量
氩
沉积（地质）
材料科学
薄脆饼
氧化物
杂质
铝
硅
解吸
无机化学
化学
纳米技术
复合材料
冶金
有机化学
古生物学
吸附
物理
生物
量子力学
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal de Physique IV (Proceedings) 作者：H. Hidalgo; Pascal Tristant; Alain Denoirjean; J. Desmaison 出版日期：2001-08-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
cdercder
斯文的初蝶
Samuel
liuzhuohao
arniu2008
行走的荷尔蒙
Copyright
学术文献互助
不潮薯饼
OK
GingerF
Criminology34
yjh123
sagitar
Nole
科研助理795
雪满头
万物皆可爱
嘻嘻哈哈
皖公网安备34019202002308
