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Microwave plasma enhanced CVD of aluminum oxide films: Influence of the deposition parameter on the films characteristics

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作者

H. Hidalgo,Pascal Tristant,Alain Denoirjean,J. Desmaison

出处

期刊：Journal de physique [Springer Science+Business Media]
日期：2001-08-01 卷期号：11 (PR3): Pr3-730 被引量：4

标识

DOI：10.1051/jp4:2001391

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