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 Effect of process parameters on glow discharge and film thickness uniformity in facing target sputtering 工艺参数对面靶溅射辉光放电和膜厚均匀性的影响
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期刊：Thin Solid Films 作者：S. Senthil Nathan; G.K. Muralidhar; G. Mohan Rao; S. Mohan 出版日期：1997-01-01 |
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