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Effect of process gas on Side Wall Angle in Silicon Trench Etching
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网址
http://dx.doi.org/10.1109/cstic58779.2023.10219330
DOI
10.1109/cstic58779.2023.10219330 doi
其它 期刊：
作者：Yiming Ma; Guang Yang; Litian Xu; Zhongwei Jiang; Jing Wang; et al
出版日期：2023-06-26
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zsl 在 2026-01-07 12:24:51 发布自北京，悬赏 10 积分
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