| 标题 |
Improved Gate Reliability Normally-Off p-GaN/AlN/AlGaN/GaN HEMT With AlGaN Cap-Layer 利用AlGaN盖层提高栅极可靠性的常关p-GaN/AlN/AlGaN/GaN HEMT
相关领域
材料科学
光电子学
高电子迁移率晶体管
晶体管
击穿电压
电气工程
拓扑(电路)
物理
电压
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|