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标题
DSA patterning options for FinFET formation at 7nm node
7nm节点形成FinFET的DSA构图选择
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平版印刷术 材料科学 计算机科学 多重图案 节点(物理) 制作 光电子学 过程(计算) 可制造性设计 纳米技术 电气工程 物理 抵抗 声学 操作系统 工程类 病理 复合材料 医学 替代医学 图层(电子)
网址
DOI
10.1117/12.2219670 doi
其它 期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者:Chi-Chun Charlie Liu; Elliott Franke; Fee Li Lie; Stuart Sieg; Hsinyu Tsai; et al
出版日期:2016-03-22
求助人
Frank 在 2024-04-25 10:48:36 发布自上海,悬赏 20 积分
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