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标题
Approaches to Sustainability in Chemical Mechanical Polishing (CMP): A Review
化学机械抛光(CMP)的可持续性方法:综述
相关领域
消耗品 化学机械平面化 半导体器件制造 持续性 过程(计算) 抛光 制造工程 计算机科学 工艺工程 纳米技术 材料科学 工程类 业务 冶金 操作系统 生物 薄脆饼 营销 生态学
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DOI
10.1007/s40684-021-00406-8 doi
其它 期刊:International Journal of Precision Engineering and Manufacturing-Green Technology
作者:Hyunseop Lee; Hyoungjae Kim; Haedo Jeong
出版日期:2021-11-26
求助人
初夏阳光 在 2025-08-05 16:42:23 发布自湖北,悬赏 10 积分
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