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Constant period line gratings as a metric for patterning fidelity in electron beam lithography
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DOI
10.1116/6.0003958 doi
其它 期刊:Journal of vacuum science and technology
作者:Cecilia Fasano; Fernando Cruz Aguirre; Casey T. DeRoo; Keri Hoadley; Jared Termini
出版日期:2024-10-08
求助人
何潜艇 在 2025-10-21 14:41:31 发布自北京,悬赏 10 积分
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