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Fabrication of refractive microlenses in semiconductors by mask shape transfer in reactive ion etching 反应离子刻蚀掩模形状转移制备半导体折射微透镜
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期刊:Microelectronic Engineering 作者:E. Strzelecka; G. D. Robinson; L.A. Coldren; Evelyn L. Hu 出版日期:1997-02-01 |
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