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标题
The optimization of photoresist profile for sub-90nm technology
相关领域
抵抗 光刻胶 材料科学 表面粗糙度 沟槽 光电子学 浅沟隔离 表面光洁度 GSM演进的增强数据速率 光学 图层（电子） 复合材料 计算机科学 物理 电信
网址
https://doi.org/10.1117/12.711965
DOI
10.1117/12.711965 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：Haeng-Leem Jeon; Cheonman Shim; Jiho Hong; Jae Won Han; Keeho Kim
出版日期：2007-03-16
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刘雪松 在 2025-10-26 17:01:32 发布自吉林，悬赏 20 积分
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