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标题
The Effects of Process‐Induced Defects on the Chemical Selectivity of Highly Doped Boron Etch Stops in Silicon
工艺缺陷对硅中高掺杂硼蚀刻停止剂化学选择性的影响
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网址
https://doi.org/10.1149/1.2054680
DOI
10.1149/1.2054680 doi
其它 期刊：Journal of The Electrochemical Society
作者：C. A. Desmond; Charles E. Hunt; Shari Farrens
出版日期：1994-01-01
求助人
Planck 在 2025-05-13 11:35:17 发布自浙江，悬赏 10 积分
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