Kinetic simulations of low-temperature plasmas used for plasma processing: ICP and feature-scale models

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标题	Kinetic simulations of low-temperature plasmas used for plasma processing: ICP and feature-scale models
网址	https://doi.org/10.1117/12.3051548
DOI	10.1117/12.3051548 doi
其它	期刊：Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XIV 作者：Daniel Main; Thomas G. Jenkins; Eve Lanham; Scott E. Kruger; John R. Cary 出版日期：2025-04-23
求助人	111 在 2026-03-20 17:31:04 发布自上海，悬赏 20 积分
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