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Enhanced Process Control for Dry Etching of Functional TiN Structures on 300 mm Wafer Level
网址
http://dx.doi.org/10.1109/estc60143.2024.10712050
DOI
10.1109/estc60143.2024.10712050 doi
其它 期刊：2024 IEEE 10th Electronics System-Integration Technology Conference (ESTC)
作者：Johann Fell; Steffen Bickel; Conny Fiedler; Annekatrin Delan; Manuela Junghähnel
出版日期：2024-09-11
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与秋逐鹿 在 2026-08-10 15:40:00 发布自湖北，悬赏 10 积分
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