DMD digital lithography optimization based on a hybrid genetic algorithm and improved exposure model

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标题	DMD digital lithography optimization based on a hybrid genetic algorithm and improved exposure model
网址	https://doi.org/10.1364/oe.533328
DOI	10.1364/oe.533328 doi
其它	期刊：Optics Express 作者：Shengzhou Huang; Yuanzhuo Tang; Bowen Ren; Dongjie Wu; Jiani Pan; et al 出版日期：2024-07-30
求助人	核桃在 2026-07-09 23:05:54 发布自湖北，悬赏 10 积分
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