Edge-induced Selective Etching of bilayer MoS2 Kirigami Structure via Space-Confined method

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标题	Edge-induced Selective Etching of bilayer MoS2 Kirigami Structure via Space-Confined method 双层MoS2 Kirigami结构的边缘诱导选择性刻蚀相关领域双层 GSM演进的增强数据速率蚀刻（微加工）材料科学空格（标点符号）纳米技术化学计算机科学膜图层（电子）人工智能生物化学操作系统
网址	https://doi.org/10.1039/d4nh00561a AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1039/d4nh00561a doi
其它	期刊：Nanoscale Horizons 作者：Weijie Ma; Andrew Keong Ng; Jie Zhu; Yang Guo; Yajing Sun; et al 出版日期：2025-01-01
求助人	ZY 在 2025-05-21 14:28:14 发布自天津，悬赏 10 积分
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