Wet etch clean-up of plasma damage for 1.68 kV breakdown in NiO/β-Ga2O3 chlorine-etched PN diode

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标题	Wet etch clean-up of plasma damage for 1.68 kV breakdown in NiO/β-Ga2O3 chlorine-etched PN diode
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-abstract/43/3/033210/33...
DOI	10.1116/6.0004289 doi
求助人	彤管有炜在 2026-07-21 10:20:03 发布自陕西，悬赏 10 积分
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