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Low temperature Topographically Selective Deposition by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition with ion bombardment assistance |
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Taguhi Yeghoyan; V. Pesce; Moustapha Jaffal; Gauthier Lefèvre; R. Gassilloud; et al 出版日期:2021-05-01 |
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