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标题
Low energy Si+, SiCH5+, or C+ beam injections to silicon substrates during chemical vapor deposition with dimethylsilane
二甲基硅烷化学气相沉积过程中低能Si+、SiCH5+或C+束注入硅衬底
相关领域
二甲基硅烷 化学气相沉积 硅 沉积（地质） 材料科学 放射化学 化学 化学工程 分析化学（期刊） 纳米技术 光电子学 环境化学 高分子化学 工程类 生物 古生物学 沉积物
网址
http://www.cell.com/article/S2405844023062102/pdf
AI链接 cell.com cell.com nih.gov nih.gov nih.gov doaj.orgdoi.org
DOI
10.1016/j.heliyon.2023.e19002 doi
其它 期刊：Heliyon
作者：Satoru Yoshimura; Satoshi Sugimoto; Takae Takeuchi; Kensuke Murai; Masato Kiuchi
出版日期：2023-08-01
求助人
福旺云吞 在 2025-12-03 22:52:32 发布自贵州，悬赏 10 积分
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