| 标题 |
 Physical Mechanisms Behind the Annealing Temperature Effect on Ferroelectric Phase in HfAlO FTJs by First-Principles Calculations 用第一性原理计算退火温度对HfAlO FTJs铁电相影响的物理机制
相关领域
铁电性
退火（玻璃）
结晶度
材料科学
兴奋剂
凝聚态物理
表面粗糙度
光电子学
纳米技术
电子工程
复合材料
电介质
工程类
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Zhenhai Li; Jialin Meng; Yongkai Liu; Jiajie Yu; Tianyu Wang; et al 出版日期：2023-10-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
DW
无极微光
老的火龙果
我能私信骂你吗
xing_xing
Nole
嘉心糖
cdercder
秋风
牧青
aaaa
aajhajkahna
Enigma_GEB
Dean
悦耳的怀寒
369ninja
科研狗
七听
初景
能干的怀莲
皖公网安备34019202002308
