Erosion Properties of Plasma Sprayed Ceramic Coatings Against Process Plasma in Semiconductor Production Equipment

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标题	Erosion Properties of Plasma Sprayed Ceramic Coatings Against Process Plasma in Semiconductor Production Equipment 半导体生产设备中等离子喷涂陶瓷涂层对工艺等离子体的侵蚀性能相关领域材料科学氧化钇稳定氧化锆等离子体蚀刻（微加工）涂层陶瓷溶液前驱体等离子喷涂复合材料冶金热喷涂立方氧化锆图层（电子）量子力学物理
网址	https://doi.org/10.31399/asm.cp.itsc2007p0943
DOI	10.31399/asm.cp.itsc2007p0943 doi
其它	期刊：Thermal spray 作者：J. Kitamura; H. Ibe; Hiroshi Mizuno; I. Aoki 出版日期：2007-05-14
求助人	大西瓜在 2023-11-18 22:25:58 发布自浙江，悬赏 10 积分
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