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 Multi Cycle and Material Deposition for Spatial Atomic Layer Deposition Process 用于空间原子层沉积工艺的多循环和材料沉积
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期刊： 作者：Atilla C. Varga; Matthias Carnoy; Ivan Kundrata; Maksym Plakhotnyuk; Julien Bachmann 出版日期：2023-10-22 |
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