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 Evaluation of performance and reliability of TFT devices with ultra-thin HfTiO dielectric layer deposited by plasma enhanced atomic layer deposition 等离子体增强原子层沉积超薄HfTiO介质层TFT器件的性能和可靠性评估
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期刊：Surface & Coatings Technology 作者：Wenzhi Zhang; Xiaoying Zhang; Zhi-Xuan Zhang; Yun-Shao Cho; Chien-Jung Huang; et al 出版日期：2025-01-14 |
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