Defect reduction and dopant activation of in situ phosphorus-doped silicon on a (111) silicon substrate using nanosecond laser annealing

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标题	Defect reduction and dopant activation of in situ phosphorus-doped silicon on a (111) silicon substrate using nanosecond laser annealing
网址	https://ui.adsabs.harvard.edu/abs/2021APExp..14b1001S/abstra...
DOI	10.35848/1882-0786/abd718 doi
其它	Shin, Hyunsu ; Lee, Juhee ; Ko, Eunjung ; Kim, Eunha ; Ko, Dae-Hong
求助人	阿刘哥在 2026-08-19 16:11:33 发布自美国，悬赏 10 积分
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