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Properties of ITO thin films deposited by RF magnetron sputtering at elevated substrate temperature
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DOI
10.1016/s0921-5107(00)00477-3 doi
其它 期刊:Materials Science and Engineering: B
作者:E Terzini; P Thilakan; C Minarini
出版日期:2002-07-25
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zzx 在 2026-08-20 19:37:02 发布自广东,悬赏 10 积分
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