Influence of O2 admixture and sputtering pressure on the properties of ITO thin films deposited on PET substrate using RF reactive magnetron sputtering

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标题	Influence of O2 admixture and sputtering pressure on the properties of ITO thin films deposited on PET substrate using RF reactive magnetron sputtering
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S025789720...
DOI	10.1016/s0257-8972(03)00717-5 doi
其它	期刊：Surface and Coatings Technology 作者：Young-Soon Kim; Young-Chul Park; S.G. Ansari; Jeong-Young Lee; Byung-Soo Lee; et al 出版日期：2003-06-30
求助人	zzx 在 2026-08-20 18:37:17 发布自广东，悬赏 10 积分
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