Pyridine-Catalyzed Atomic Layer Deposition of SiO2 from Hexachlorodisilane and Water: An In Situ Mechanistic Study

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标题	Pyridine-Catalyzed Atomic Layer Deposition of SiO2 from Hexachlorodisilane and Water: An In Situ Mechanistic Study
网址	https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.3c00621
DOI	10.1021/acs.chemmater.3c00621 doi
其它	期刊：Chemistry of Materials 作者：Jieun Hyun; Hyeong-Jin Kim; Bonggeun Shong; Yo‐Sep Min 出版日期：2023-05-09
求助人	jingjing 在 2026-07-04 11:19:16 发布自安徽，悬赏 10 积分
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