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  FWave: A Fast 3D Resist Model with Dual-Branch Architecture for EUV Lithography Simulation 相关领域
极紫外光刻
光学
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材料科学
光刻
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相位匹配
光散射
激光束
模版印刷
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| DOI |
10.1364/oe.603845
doi
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| 其它 |
期刊：Optics Express 作者：Yuyang Zhang; Ruiying Liu; Jinyuan Tan; Lisong Dong; Yayi Wei 出版日期：2026-06-10 |
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