Silicon nanostructures with very large negatively tapered profile by inductively coupled plasma-RIE

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标题	Silicon nanostructures with very large negatively tapered profile by inductively coupled plasma-RIE
网址	https://pubs.aip.org/avs/jvb/article-pdf/doi/10.1116/1.49644...
DOI	10.1116/1.4964402 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 作者：A. Ayari-Kanoun; F. Aydinoglu; B. Cui; F. Saffih 出版日期：2016-11-22
求助人	翟不评在 2026-08-05 21:08:39 发布自美国，悬赏 10 积分
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