Simulation and optimization of reactor airflow and magnetic field for enhanced thin film uniformity in physical vapor deposition

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标题	Simulation and optimization of reactor airflow and magnetic field for enhanced thin film uniformity in physical vapor deposition 增强物理气相沉积薄膜均匀性的反应器气流和磁场模拟与优化相关领域气流薄膜物理气相沉积沉积（地质）材料科学气相沉积化学气相沉积磁场光电子学光学纳米技术物理热力学量子力学生物古生物学沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2024.112294
DOI	10.1016/j.mee.2024.112294 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Yongshuan Wu; Kecheng Liu; P. She; Junhui Li 出版日期：2024-11-01
求助人	Lecyel 在 2025-12-18 15:36:43 发布自上海，悬赏 10 积分
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