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  Impact of mask errors on imaging quality in surface plasmon lithography 表面等离子体光刻中掩模误差对成像质量的影响
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期刊：Optics Express 作者：Dinghai Rui; Libin Zhang; Yayi Wei; Huwen Ding; Yajuan Su 出版日期：2025-06-23 |
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